本次會議邀請到工研院材化所先進陶瓷材料研究室莊凱翔經理為大家分享『第三代半導體氮化矽(Si3N4)陶瓷材料的趨勢與應用』,希望藉由會中的分享與交流,提供會員未來研發的方向與市場的切入關鍵。
會議日期 | 100年04月20日 (星期二)下午14時30分至16時00分 |
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會議地點 | 台北市松山區八德路四段85號4F4B會議室(長德大樓) |
會議時間 | 會議內容 |
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14:25-14:30 | 一、 報到 |
14:30-14:35 | 二、 主席致詞:林正良顧問(前材料與化工研究所副所長) |
14:50-15:20 | 四、 專題報告:第三代半導體氮化矽(Si3N4)陶瓷材料的趨勢與應用 (工研院材化所先進陶瓷材料研究室莊凱翔經理) |
15:20-15:50 | 五、 意見交流與討論 |
15:40-15:50 | 六、 主席結論 |
16:00~ | 七、 散會 |
本次會議邀請到工研院材化所先進陶瓷材料研究室莊凱翔經理為大家分享『第三代半導體氮化矽(Si3N4)陶瓷材料的趨勢與應用』,希望藉由會中的分享與交流,提供會員未來研發的方向與市場的切入關鍵。